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部件鍍膜設備KaLine 8V是在真空狀態中向產品外部涂層非導體的設備,在真空內產品做自空傳,由能保持一定的膜厚度構成的.

Kurt J. Lesker Company PVD-BATCH DRUM系列由兩種標準尺寸（PVD 200 和 PVD 500）組成，可配置為水平或垂直配置。當顆粒物是一個主要問題時，水平配置優先。水平和垂直配置均可用于 3D 涂層的雙軸旋轉。通過每次運行的沉積面積來衡量的吞吐量范圍從幾百平方英寸到超過 2000 平方英寸，并且還提供更大的定制系統。

概述 針對有機材料沉積進行了優化 多達 12 個 LTE 信號源;1cc、10cc或35cc容量 主體與摻雜劑比 1000：1 多達 4 個熱蒸發源 基板快門 自動基板、掩膜存儲和更換 高溫計端口 手套箱接口設計，帶滑動前門和滑動后門 KJLC eKLipse™ 控制軟件 速率控制分辨率 0.05Å/s 基于配方的基于 PC 的系統控制 低溫泵高真空泵 2位閘閥

Kurt J. Lesker Company 的有機薄膜沉積和金屬化系統和金屬 SPECTROS™ 150 是基于主力 SPECTROS 平臺的下一代薄膜沉積系統。SPECTROS平臺是一種成熟、堅固和多功能的設計。SPECTROS建立在原始設計的成功基礎上，改進了系統基礎壓力和抽空時間。腔室設計、具有高級編程功能的行業最佳軟件控制系統、實時配方線程操作以及用于優化薄膜性能的眾多功能。

Kurt J. Lesker Company Mini SPECTROS™是基于主力SPECTROS平臺的下一代薄膜沉積系統。SPECTROS平臺在全球擁有100多臺設備，是一種成熟、堅固和多功能的設計。Mini SPECTROS建立在原始設計的成功基礎上，改進了系統基礎壓力和抽空時間。技術的腔室設計、具有高級編程功能的行業最佳軟件控制系統、實時配方線程操作以及用于優化薄膜性能的眾多功能，這些

Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 濺射或熱蒸發薄膜沉積系統是我們優化的入門級沉積系統。我們的腔室設計特別適合手套箱集成。NANO 36 具有更高的功能和更小的占地面積，提供了實惠的價格點，同時保持了您期望從 KJLC 獲得的質量。