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Epiluvac 產品通常作為完整的系統交付，包括反應器模塊、氣體輸送系統、過程控制、安全系統、安裝和調試。每個系統在發貨前都經過廣泛的測試，一旦安裝，交付還包括所有必要的客戶操作和維護培訓。

分子束外延薄膜沉積系統MBE 8000旨在滿足對高性能化合物半導體器件日益增長的需求。這種在超高壓環境中使用超純金屬的 8×6? 或 4×8? 固源 MBE 系統在設計、溫度均勻性和通量均勻性方面超出了基本預期。該系統能夠培養 8 個 150 毫米（6 英寸）晶圓或 4 個 200 毫米（8 英寸）晶圓的批次，這些晶圓具有顯著的均勻性（成分、厚度）和非常低的缺陷水平。

Riber分子束外延系統的 multi 4“ / 6” MBE 6000 是全球每個成功的大批量商家或內部 epi 操作的核心。它是高通量和可重復性的MBE基準。活動時間通常超過一年，這證明了反應堆的穩定性和可靠性。沒有比Riber的新客戶和長期客戶重復下訂單更有力的認可了。有許多晶圓廠配備了 2 – 8 個 MBE 6000,24 / 7 并排運行。最初，系統主要用于制造大量微波器件材料。

分子束外延薄膜沉積系統MBE49全自動生產機器為材料質量、產量、產量以及與操作和維護相關的成本設定了行業標準。超過55個這樣的系統已經在全球范圍內交付，他們為客戶帶來的成功使該系列反應器獲得了廣泛持有和當之無愧的聲譽，因為它使新的化合物半導體器件技術的商業化能夠在其他地方的范圍和規模上實現商業化。且有四個反應器，專門設計用于沉積砷化物、磷化物、氮化物和氧化物。

RIBER分子束外延4 英寸中試生產系統正受到越來越多與工業合作伙伴合作開展應用項目的關鍵研究機構的關注。 這種興趣的增加部分歸因于 4 英寸（或 3 x 2 英寸）容量在這種類型的戰略合作伙伴關系中受到青睞，在這些合作伙伴關系中，成功的里程碑基于設備演示和合格的試生產運行。 無論材料系統如何，412 都具有全自動樣品轉移、12 個源端口的靈活性和可重復的晶圓廠質量 ，專為實現這些目標而設計。

RIBERMBE分子束外延系統Compact 21 已成為有史以來最成功的商用 3 英寸 MBE 系統。憑借核心 Compact 21 DNA 在所有配置（III-V、II-VI、Gp IV、氧化物、金屬、GSMBE）中都很明顯，該多功能系統在從基礎研究到設備開發和優化的每個研究領域都得到了完善的服務。它最多可容納 12 個源端口，并且與電子槍兼容。這款整潔而強大的反應器可提供手動或全自動