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Canon FPA5000 ES4掃描式光刻機，光源波長248nm，分辨率優于0.13µm，用于6寸、8寸及12寸生產線，廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LED等域。

Canon FPA5000 ES3掃描式光刻機，主要用于6寸、8寸及12寸生產線，廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LED等域。

1、Canon FPA3000 EX4步進式光刻機 光源波長248nm 分辨率優于0.25µm 主要用于主要用于4寸、6寸、8寸生產線 廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LED等領域 2、產品詳情 主要技術指標 分辨率0.25µm N.A.0.4~0.6 曝光光源248nm 倍率5:1 最大曝光現場22mm*22 mm 對準精度60nm

1、Nikon S308F掃描式光刻機 光源波長193nm 分辨率優于0.07µm 主要用于4寸、6寸、8寸及12寸生產線 廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LED等領域 2、產品詳情 主要技術指標 分辨率0.07µm N.A.0.92 曝光光源193nm 倍率4:1 最大曝光現場26mm*33mm 對準精度12nm

1、Nikon S208D掃描式光刻機 光源波長248nm 分辨率優于0.11µm 主要用于8寸及12寸生產線 廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LED等領域 2、產品詳情 主要技術指標 分辨率0.11µm N.A.0.82 曝光光源248nm 倍率4:1 最大曝光現場26mm*33mm 對準精度 15nm

1、Nikon S207D掃描式光刻機 光源波長248nm 分辨率優于0.11µm 主要用于8寸及12寸生產線 廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LED等領域 2、產品詳情 主要技術指標 分辨率0.11µm N.A.0.82 曝光光源248nm 倍率4:1 最大曝光現場26mm*33mm 對準精度 20nm